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      醫用水處理設備,全自動純水機,水處理設備,超純水設備,口腔污水處理設備,反滲透設備,軟化水設備
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      反滲透裝置物理整肅方式流程及注意事項

      物理整肅規范
      發生下列情形時,物理學整肅已不能回復反滲透膜的效能,因此需物理整肅。

      ①在標準前提之下,產水量減少10-15%;
      ②進海水與濃水裝置壓差提升至初始值的1.5倍,
      ③水體減少10-15%。


      物理整肅人數
      當膜電路輕度水污染時,應立即清洗膜電路?;瘜W物質易于滲入到污染層,污染易于從膜之中沖出,輕微水污染會沖擊整肅性能。如果細胞膜電路的效能減少到正常值的30-50%,很容易整肅和恢復膜裝置的初始效能。


      膜的整肅半衰期視現場具體水污染情形而定。穩定消毒半衰期為每3-12個星期。如果一個星期之內展開一次超過的海水整肅,需展開預處理,如減少融資或重新設計膜裝置;如果RO純水裝置的整肅半衰期為1~3個星期,則應重點變更和改進原有裝置的行駛變量。即使裝置短時間段沒有受水污染,為了更糟糕地保證系統的穩定行駛,通常相信每半年展開一次物理整肅。


      在預先處理過程之中采用無機絮凝劑時,往往適用化學反應不全然的無機鹽,不能產生可過濾的絮體。使用者應保證沒中毒的絮凝劑轉入細胞膜裝置。中毒的絮凝劑可以SDI試驗裝置測量,如SDI隔膜之上的鐵為3μg片,任何時都不應少于5μg片。


      除濁度和SDI測定之外,枚粒計數器還可精確測量RoNF進水與否及格。小于2μm的微粒應為<;100ml.
      清洗劑的選取
      有所不同的清洗劑應用作有所不同的污染。當水污染爆發時,通常不只一種污染,所以非常規的物理整肅需包含兩個流程:高pH清洗和低pH清洗??刹捎玫姆浅R幬锢碚C劑見表格4。選取哪種清洗劑展開物理整肅,可通過下列方式確認:
      -根據反滲透設備進海水水體;
      -在整肅整個裝置的膜元件以前,可從裝置之中抽出一個或兩個細胞膜電路,通過整肅測試,檢驗出最佳的清洗劑。
       通常而言,應采用高pH洗滌劑來清潔油和細菌水污染,然后采用低pH洗滌劑用以消毒無機垢或合金化合物水污染。有時,酸洗之后再展開堿洗,或用一種藥物整肅,如雨水地下水的鐵污染,都可通過直觀的低pH清洗來構建。有時在整肅液中退出洗滌劑移除細菌和有機水污染物;退出EDTA等螯合劑,可更糟糕地移除微粒、甲烷、細菌和氯化物垢。清洗劑的選取或整肅次序失當,也許會減輕水污染。

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